штат: | |
---|---|
Количество: | |
Приложение
Применение вакуума
Лаборатория и исследования и разработки
Полупроводниковая промышленность
Вакуумная упаковка
Оборудование для процесса плазменного травления
Приложение
Применение вакуума
Лаборатория и исследования и разработки
Полупроводниковая промышленность
Вакуумная упаковка
Оборудование для процесса плазменного травления
Функции
Функции
Технические параметры
Измерительная среда | Различные газы, совместимые с контактными материалами |
Диапазон давления | 0~2Торр…1000Торр |
Точность | ±0,1% полной шкалы, ±0,25% полной шкалы, ±0,5% полной шкалы (в зависимости от диапазона измерения) |
Рабочая температура | -40~85℃ |
Напряжение питания | 10~30В постоянного тока 8,5~30 В постоянного тока 12~30В постоянного тока 10~30В постоянного тока (при условии вывода) |
Выходной сигнал | 4~20 мА постоянного тока, напряжение, RS485 |
Технические параметры
Измерительная среда | Различные газы, совместимые с контактными материалами |
Диапазон давления | 0~2Торр…1000Торр |
Точность | ±0,1% полной шкалы, ±0,25% полной шкалы, ±0,5% полной шкалы (в зависимости от диапазона измерения) |
Рабочая температура | -40~85℃ |
Напряжение питания | 10~30В постоянного тока 8,5~30 В постоянного тока 12~30В постоянного тока 10~30В постоянного тока (при условии вывода) |
Выходной сигнал | 4~20 мА постоянного тока, напряжение, RS485 |
Приложение
Применение вакуума
Лаборатория и исследования и разработки
Полупроводниковая промышленность
Вакуумная упаковка
Оборудование для процесса плазменного травления
Функции
Технические параметры
Измерительная среда | Различные газы, совместимые с контактными материалами |
Диапазон давления | 0~2Торр…1000Торр |
Точность | ±0,1% полной шкалы, ±0,25% полной шкалы, ±0,5% полной шкалы (в зависимости от диапазона измерения) |
Рабочая температура | -40~85℃ |
Напряжение питания | 10~30В постоянного тока 8,5~30 В постоянного тока 12~30В постоянного тока 10~30В постоянного тока (при условии вывода) |
Выходной сигнал | 4~20 мА постоянного тока, напряжение, RS485 |